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第2章(1/3)

《小发明节目，你造2nm光刻机？》第2章在线阅读 随着教授的失态，节目组瞬间重视了起来。

立马将有关光刻机的相关知识投放在大屏幕上，展现给在场的所有观众。

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。

是制造芯片的核心装备。

它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。

因此光刻机的价格昂贵，通常在3千万至5亿美元。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间。

高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

2nm是什么概念，已经达到了世界上最先进的水平！ 经过短暂的科普，所有人都明白了光刻机是什么，现场的所有人都陷入了一阵窒息。

震惊！ 所有人的心就如同惊涛骇浪一般！ 他们都不敢相信，一个八岁的孩子，居然能够发明出这样超级大国才掌握的高级光刻机！ 2nm光刻机啊！ 众所周知，当芯片工艺进入7nm后，就需要用到一种光刻机，叫做EUV光刻机（极紫外线光刻机），采用的是13.5nm的紫外线光源。

而DUV光刻机，主要采用的是193nm的光源，理论上可以经多重曝光后用到7nm，但实际没有厂商这么干，因为多重曝光良率大幅度降低，成本非常高，且不可控。

而EUV光刻机，全世界只有一家厂商能生产，所以任何芯片厂商，想要生产7nm及以下的芯片，就得找它买光刻机。

而这样的光刻机一直都是供不应求，是几大巨头一直争抢的东西。

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